2T/H电子行业EDI超纯水设备

超纯水，既将水中的导电介质几乎完全去除，又将水中不离解的胶体物质、气体及有机物均去除至很低程度的水。电阻率大于18MΩ*cm，或接近18.3MΩ*cm极限值。超纯水，是一般工艺很难达到的程度，采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理四大步骤，多级过滤、高性能离子交换单元、超滤过滤器、紫外灯、除TOC装置等多种处理方法，电阻率方可达18.25MΩ*cm。超纯水最初是美国科技界为了研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的超临界精细技术生产出来的水，这种水中除了水分子(H20)外，几乎没有什么杂质。

名清源科技（北京）有限公司设计研发的电子半导体工业EDI超纯水设备，采用最先进的多级预处理+双级RO反渗透+EDI+混床抛光技术，根据不同用户的需要，定制设计不同产水水质要求和不同产水流量要求的超纯水设备，设备产水量0.2-10吨/小时，制备的超纯水完全符合中国国家实验室用水GB6682-2008标准，对于特定领域的特殊要求，可设计产水水质达到18.25MΩ的极限超纯水设备。

超纯水设备适合电子半导体、生物制药等行业，以及原子吸收光谱、原子发射光谱、高效液相色谱、离子色谱、质谱分析、ICP等离子发射光谱等的微量分析及配置，稀释分析试剂等一般化学实验室的应用，也适合于精密光学镜片及感光胶片冲洗等行业用的纯水和超纯水。

★0.2-10吨/小时产水量的中型超纯水设备预处理和反渗透单元所有管件、配件采用304不锈钢，EDI和抛光除盐系统所有管件、配件采用卫生级内外抛光无死角的无菌316L不锈钢，保证水质的同时，坚固耐用，抗腐蚀。

★主要部件采用国际知名品牌，保证优良的产水水质。

★超纯水设备的电路和水路彻底分离，避免因内部潮湿、漏水引起的电路老化损坏。

★先进的微电脑控制以及参数修改、提示功能，运行状态和产水水质在线显示，操作简单、快捷。

★采用国际最先进的单双级RO反渗透+EDI连续电除盐+抛光混床工艺，出水电阻率可达18.25MΩ.cm，连续产水性能极佳。